800℃を超える高温環境で利用可能な半導体素子を開発

TSUKUBA JOURNAL/筑波大学

 Si(シリコン、ケイ素)半導体は、あらゆる機器に使われており、私たちの生活に欠かせないものになってい...

学問分野

AIによる要約

シリコン半導体の動作可能温度が300℃以下に限られていた問題に対し、窒化アルミニウム(AlN)結晶を用いた新半導体技術が確立しました。この技術を使いダイオードは827℃、トランジスタは727℃まで動作可能になることが実証され、またニッケル電極も同温度で安定した利用が可能となりました。この技術により、高温環境での地下開発や鉄鋼、宇宙・航空産業への大きな貢献が期待されます。

※この要約文は、フクロウナビ編集部がAIを用いて独自に作成したものです。

※AIによる自動生成のため、実際の記事の内容とは事実関係が異なっている場合がございます。引用等で使用される際は、必ず記事本文をご確認ください。

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